कोर रासायनिक संरचना
मुख्य घटक: सिलिकॉन डाइऑक्साइड (SiO₂), सोडियम ऑक्साइड (Na₂O), और कैल्शियम ऑक्साइड (CaO); कुल मिलाकर, यह सिलिकेट सामग्री प्रणाली से संबंधित है।
उत्पादन कच्चा माल: साधारण कांच के समान; उच्च तापमान पर सोडा ऐश, चूना पत्थर और क्वार्ट्ज के पिघलने और प्रतिक्रिया के माध्यम से उत्पन्न होता है।
सामग्री वर्गीकरण
सामग्री श्रेणी के संदर्भ में, टेम्पर्ड ग्लास को 'अकार्बनिक सिलिकेट सामग्री' के रूप में वर्गीकृत किया गया है; यह कोई बहुलक कार्बनिक पदार्थ, मिश्रित पदार्थ या मिश्रधातु नहीं है।
निर्माण और ऑटोमोटिव अनुप्रयोगों में उपयोग किया जाने वाला मानक टेम्पर्ड ग्लास अपनी आधार सामग्री के रूप में सोडा चूने सिलिकेट ग्लास का उपयोग करता है; सतह तनाव संरचना केवल भौतिक या रासायनिक प्रक्रियाओं के माध्यम से बदली जाती है, जबकि मौलिक सामग्री संरचना अपरिवर्तित रहती है।
विशेष प्रकार में भौतिक अंतर
रासायनिक रूप से टेम्पर्ड ग्लास: आधार सामग्री साधारण सिलिकेट ग्लास रहती है; पिघले हुए क्षार लवणों में आयन विनिमय के माध्यम से सतह पर संपीड़न तनाव उत्पन्न होता है, जिससे मूलभूत सामग्री संरचना अपरिवर्तित रहती है।
टेम्पर्ड बोरोसिलिकेट ग्लास: एक प्रकार का विशेष टेम्पर्ड ग्लास; इसकी सामग्री संरचना सिलिकॉन डाइऑक्साइड, बोरॉन ऑक्साइड और सोडियम ऑक्साइड पर केंद्रित है, जिसके परिणामस्वरूप थर्मल विस्तार का बेहद कम गुणांक और बेहतर उच्च तापमान प्रतिरोध होता है।